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본 연구에서 고투과도를 갖는 실리카 분리막은 콜로이달 실리카 졸과 고분자형 실리카 졸 두 가지를 DRFF법과 SRFF법으로 다공성 금속 지지체 위에 코팅하여 제조되었다. 실리카 졸은 졸-겔법으로 테트라에톡시실란(TEOS)에 의하여 제조되었고, 각각의 졸은 동적광산란법(DLS), 전계방사 주사전자현미경(FE-SEM), 질소 흡착법 등을 이용하여 그 특성을 평가하였다. 다공성 금속 지지체위에 콜로이달 실리카 졸로 중간층을 형성하여 치밀한 구조의 실리카 층을 형성한 후 그 위에 분리층으로 고분자형 실리카 졸을 코팅하여 핀홀을 줄이는 방법으로 기체분리용 분리막을 제조하였다. FE-SEM으로 분리막의 코팅 층을 분석한 결과 분리층은 중간층보다 침밀한 구조를 가지고 있음을 확인하였고 기체투과 결과 수소 투과도 $(6.63-9.21){\times}10^{-5}mol{\cdot}m^{-2}{\cdot}s^{-1}{\cdot}Pa^{-1}$ 분포를 보였다.
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참고문헌 (31)
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S. J. Khatib / 2011 / Review of silica membranes for hydrogen separation prepared by chemical vapor deposition / Membr. Sci. Tech 14:25
S. S. Gopalakrishnan / 2008 / Hydrogen gas mixture separation by CVD silica membrane / J. Membr. Sci 323:144
D. Lee / 2002 / Gas permeation characteristics of a hydrogen selective supported silica membranes / J. Membr. Sci 210:291
N. Benes / 2000 / Microporous silica membranes / Membr. Sci. Tech 6:335
R. M. de Vos / 1998 / High-selectivity, high-flux silica membranes for gas separation / Science 279:1710
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R. M. de Vos / 1998 / High-selectivity, high-flux silica membranes for gas separation / Science 279:1710
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