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Jang, Jin-Nyoung (Dept. of Display and Semiconductor Physics, Korea University) Oh, Kyoung-Suk (National Fusion Research Center) Yoo, Suk-Jae (National Fusion Research Center) Kim, Dae-Chul (National Fusion Research Center) Lee, Bon-Ju (National Fusion Research Center) Yang, Ie-Hong (Dept. of Display and Semiconductor Physics, Korea University) Moon, Ji-Sun (Dept. of Display and Semiconductor Physics, Korea University) Kim, Jong-Sik (SEM Technology) Choi, Soung-Woong (Dept. of Information Technology, Handong Global University) Park, Young-Chun (Dept. of Information Technology, Handong Global University) Hong, Mun-Pyo (Dept. of Display and Semiconductor Physics, Korea University)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권2호
발행연도
2007.1
수록면
1,715 - 1,718 (4page)

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New ITO thin film of good performance has been developed by brand-new, plasma-damage-free sputtering process at the room temperature. The room temperature-processed ITO films with optimized conditions as neutral beam acceleration bias of -30V and In & Sn composition ratio of 99:01 gives lower resistivity as $4.22{\times}10^{-4}{\Omega}-cm$ and higher transmittance over 90% a wavelength of 550 nm. The transmission electron microscope (TEM) images of the films show a nano-crystalline structure.

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