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학술대회자료
저자정보
Park, Lee-Soon (Department of Polymer Science, Kyungpook National University) Im, Moo-Sik (Department of Polymer Science, Kyungpook National University) Park, Jin-Woo (Department of Polymer Science, Kyungpook National University) Kim, Hong-Tak (Department of Polymer Science, Kyungpook National University) Ryu, Jae-Hwa (LG electronics) Park, Seung-Tae (LG electronics)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
발행연도
2003.1
수록면
381 - 384 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2005

Photosensitive Barrier Rib Paste and Materials and Process
Pa ,  k ,  Lee-Soon 외 10명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2005.01 학술대회자료

2003

Photosensitive Electrode Paste Formulation and Its Effect on Photolithographic Process
Pa ,  k ,  Lee-Soon 외 12명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2003.01 학술대회자료

2000

Aqueous alkali-developable Photosensitive Barrier Rib Paste for PDP and Photolithographic Process
Pa ,  k ,  Lee-Soon 외 6명 한국정보디스플레이학회 학술대회 2000.01 학술대회자료

초록· 키워드

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Photosensitive electordes(Ag and Black) are widely used in the patterning of both address and bus electrodes on the rear and front panel of plasma display panel (PDP). As the need for high resolution(>XGA) and large area(>60 inches) PDP is increased, basic understanding of each component of formulation on the photolithographic process of patterning electrodes are required in order to increase the yield in the production of PDP. In this work, the materials and amount of necessary components of photosensitive electrode paste and their effect on the photolithographic process of patterning electrodes were studied.

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