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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
윤근병 (경북대학교 공과대학 고분자공학과) 손형준 ([주]LG화학 화성사업부) 이동호 (경북대학교 공과대학 고분자공학과)
저널정보
한국공업화학회 공업화학 공업화학 제17권 제2호
발행연도
2006.1
수록면
217 - 222 (6page)

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폴리이미드는 높은 열안정성, 우수한 기계적, 전기적 성질을 가지고 있어 많은 연구가 진행되어 왔지만, 대부분의 유기용매에 불용인 관계로 그 용도가 제한되어 있다. 본 연구에서는 방향족 디아민인 2,2,-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (BAPAF)와 3,3,-diamino-4,4- dihydroxybyphenyl (HAB)를 사용하고 방향족 디안하이드라이드인 4,4-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4-oxydiphthalic dianhydride (OPDA), 3,3,4,4-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 및 3,3,4,4-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA)를 사용하여 가용성 폴리이미드를 합성하였다. 폴리이미드의 성질은 NMR, FR-IR 및 TGA를 이용하여 조사하였으며, 유전상수는 축전용량을 측정하여 계산하였다. 히드록시기를 포함한 폴리이미드와 methacryloyl chloride를 반응시켜 감광성 폴리이미드를 합성하고, photolithography기술을 이용하여 micro-패턴을 형성하였다.
#soluble and photosensitive polyimide #methacryloyl group #photolithography #micro-pattern

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