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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김준석 (고려대학교 산업시스템정보공학과) 고효헌 (고려대학교 산업시스템정보공학과) 김성식 (고려대학교 산업시스템정보공학과)
저널정보
대한안전경영과학회 대한안전경영과학회지 대한안전경영과학회지 제7권 제5호
발행연도
2005.1
수록면
255 - 273 (19page)

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Overlay parameter control of the semiconductor photolithography process is researched in this paper. Overlay parameters denote the error in superposing the current pattern to the pattern previously created. The reduction of the overlay deviation is one of the key factors in improving the quality of the semiconductor products. The semiconductor process is affected by numerous environment and equipment factors. Through process condition prediction and control, the overlay inaccuracy can be reduced. Generally, three types of process condition change exist; uncontrollable white noise, slowly changing drift, and abrupt condition shift. To effectively control the aforementioned process changes, control scheme using adaptive deadband is proposed. The suggested approach and existing control method are cross evaluated through simulation.

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