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저자정보
노영미 (한국기술교육대학교 대학원 기계공학과) 임익태 (동경대학교) 김광선 (한국기술교육대학교 메카트로닉스 공학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체장비학회지 한국반도체장비학회지 제2권 제1호
발행연도
2003.1
수록면
25 - 29 (5page)

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The fluid flow, mass transfer, heat transfer and film thickness variation during the spin coating process are numerically studied. The model is said to be I-dimensional because radial variations in film thickness, concentration and temperature are ignored. The finite difference method is employed to solve the equations that are simplified using the similarity transformation. In early time, the film thinning is due to the radial convective outflow. However that slows during the first seconds of spinning so the film thinning due to evaporation of solvent becomes sole. The time varing film thickness is analyzed according to the wafer spin speed, the various solvent fraction in the coating liquid, and the various solvent vapor fraction in the bulk of the overlying gas during the spin coating is estimated.

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