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학술저널
저자정보
강경태 (고려대학교 재료공학과) 진정근 (고려대학교 재료공학과) 강필규 (고려대학교 재료공학과) 노대호 (고려대학교 재료공학과) 변동진 (고려대학교 재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제13권 제7호
발행연도
2003.1
수록면
436 - 441 (6page)

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The characteristics of <112> orientation were studied for the $TiO_2$thin films, which were prepared on the glass by CVD (chemical vapor deposition) at various substrate temperatures. It was confirmed that $TiO_2$ films exhibited <112>-preferred orientation in a specific temperature range. Although $TiO_2$polycrystalline film grown deposited at relatively low temperature showed the growth of random directions, the <112>-preferred orientation was gradually developed with increasing deposition temperature. According to exhibit higher degree of <112>-preferred orientation, $TiO_2$thin film showed porous surface morphology, well-developed columnar structure, and deeper voids resulted from non-aggregation of columns were observed. In addition, transmittance was enhanced. Therefore, the growth of $TiO_2$with <112>-preferred orientation is suitable for glass coating because of predominance of photocatalytic efficiency and transmittance.
#$TiO_2$ #CVD #photocatalytic #preferred orientation

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