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저자정보
최호상 (경일대학교 화학공학과) 김재홍 (경일대학교 화학공학과) 이석기 (동일시마즈[주]) 박헌휘 (호서대학교 환경공학과)
저널정보
한국막학회 멤브레인 멤브레인 제12권 제3호
발행연도
2002.1
수록면
158 - 164 (7page)

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본 연구에서는 반도체 세정공정에서 발생되는 IPA를 재활용하기 위하여 NaA 제올라이트 막을 이용한 투과증발 공정을 검토하기 위한 기초실험을 수행하였다. 공정에 사용한 NaA 제올라이트 막은 전 농도 범위에서 우수한 분리성능을 보였고, 고온조작에서도 분리성능이 매우 우수하였다. 조작온도 50에서 공급원액의 농도가 90 wt%일 때, 투과유속은 약 $1,500 g/m^2/hr$분리계수는 1,000 이상을 얻을 수 있었다. 또한, 연속조작에서 IPA의 탈수농축에 따른 평균 투과유속은 약 $1,000 g/m^2/hr$를 얻을 수 있었다.

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