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학술저널
저자정보
김덕재 (고등기술연구원 재료공정연구실) 조영래 (한국전자통신연구원 회로소자기술연구소) 백종문 (고등기술연구원 재료공정연구실) 곽종구 (한국원자력연구소)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제11권 제6호
발행연도
2001.1
수록면
441 - 447 (7page)

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PACVD 방법으로 다이캐스팅용 금형에 적용할 수 있는 TiN 코팅막을 형성시키는 연구를 하였다. 직류 펄스전원을 사용하여 지름이 4 mm인 작은 동공내부에 최고 20 mm 깊이까지 균일한 TiN 코팅층을 형성할 수 있었다. 코팅공정시 발광분광분석기를 사용해 Ti와 $N_{2}$ 및 $Ar^{+}$의 분광선을 측정함으로써 TiN 코팅막의 형성기구에 대하여 고찰하였다. 듀티비율이 50% 이상인 경우는 Ti, $N_{2}^{+}$ 및 $Ar^{+ }$ 의 분광선이 나타났으나, 듀터비율이 28.6%이하인 경우 분광선이 전혀 나타나지 않았으며 TiN 코팅층의 형성도 불안정하였다. 펄스전원으로 Bipolar로 사용한 경우 Unipolar를 사용한 경우보다 지름이 4 mm인 구멍에서 2배 깊게 코팅되었다.
#TiN #PACYD #OES #dies #hole #plasma diagnosis #duty ratio

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