다결정 실리콘의 확산 공정 시뮬레이션

이흥주; 이준하

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자료유형: 학술저널

저자정보: 이흥주 (상명대학교 컴퓨터시스템공학과 정보디스플레이연구소) 이준하 (상명대학교 컴퓨터시스템공학과 정보디스플레이연구소)

저널정보: 한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제4권 제1호

발행연도: 2005.1

수록면: 23 - 27 (5page)

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This paper presents a simulation methodology for the poly-silicon oriented TCAD(technology-CAD) system. A computer simulation environment for the poly-silicon processing has been set up with the proper adoption of the two-stream model for ion-doping, diffusion, and defects inside of grain and on the grain boundary. After the simulator calibration, simulation results for the poly-silicon diffusion hat shown a good agreement with the SIMS data.

#Poly-Silicon #TCAD #Simulation #Diffusion #SIMS Data

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이 논문의 저자 정보

이흥주

소속기관 Department of Electronic Engineering, Sangmyung University

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

논문수 12 이용수 29

이준하

소속기관 상명대학교 컴퓨터시스템공학과

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

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