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학술저널
저자정보
윤석영 (부산대학교 공과대학 무기재료공학과) 김근수 (현대전자산업주식회사 공정기술팀) 이원재 (한국전기연구소 신소재응용연구그룹) 김광호 (부산대학교 공과대학 무기재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제10권 제8호
발행연도
2000.1
수록면
525 - 531 (7page)

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플라즈마 화학증착법을 이용하여 Corning glass 1737 기판에 안티몬 도핑 산화주석 박막을 증착하였다. 플라즈만 화학증착시 반응변수에 따른 박막의 결정상 및 형성된 표면거칠기에 대하여 XRD와 AFM을 이용하여 검토하였다. 반응온도 $450^{\circ}C$, 유입가스비 R[$P_{SbCl}P_{{SnCl}_4}$]=1.12, r.f. power 30W에서 비교적 결정성이 뛰어난 박막을 얻을 수 있었다. 화학증착법(TCVD)에 비해 플라즈마 열화학증착법(PECVD)으로 얻은 박막의 표현형상이 보다 균일하였다. 안티몬 도핑농도가 증가할수록, 증착온고가 낮을수록, 증착두께가 작을수록 박막의 표면거칠기가 보다 감소하였다.
#Tin oxide #$SnO_2$) #Sb doping #PECVD #Surface roughness

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