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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2001.1
- 수록면
- 21 - 21 (1page)
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한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
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MOCVD법에 의한 PZT 박막의 증착 및 전기적 특성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
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RF-PECVD법과 ECR-PECVD법에 의해 증착된 TiN 박막의 물성에 관한 비교 연구
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1995 .01
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PECVD법에 의한 DLC 박막의 증착
한국표면공학회지
2002 .04
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초고집적회로의 커패시터용 PZT 박막의 입열 조건에 따른 유전특성 - 1 - 비정질 PZT를 사용한 PZT 박막의 누설전류 개선에 관한 연구 ( Dielectric properties with heat-input condition of PZT thin films for ULSI`s capacitor - 1- A study on the improvement of leakage current of PZT thin films using a amorphous PZT layer )
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PECVD에 의한 질화 실리콘 박막의 증착
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2007 .11
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저압화학증착법에 의해 제조된 PZT박막의 특성
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
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2001 .01
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1997 .01
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Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
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PECVD법으로 증착시킨 a-SiC:H 박막의 열처리온도 변화에 따른 특성분석
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2001 .06
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솔젤법에 의한 제작된 PZT 박막의 특성
전기학회논문지 P
2001 .12
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열처리 조건이 PECVD방식으로 증착된 Ta2O5 박막 특성에 미치는 영향 ( Effect of Annealing Conditions on Ta2O5 Thin Films Deposited By PECVD System )
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1993 .08
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1992 .01
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$Ta_2O_{5}$ 박막의 누설전류 및 유전특성과 박막응력
한국재료학회지
1995 .01
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초고집적 회로용 PZT박막의 형성조건 - 스퍼터링법으로 Si , TiN/Ti/Si 기판위에 증착된 PZT 박막의 급속 열처리에 의한 결정화 및 특성 - ( Formation Conditions of PZT Thin Films for ULSI - A Study on the formation and characteristics of PZT thin films by rapid thermal annealing - )
전자공학회논문지-A
1993 .10
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Sputtering 법으로 증착된 PZT박막의 전극에 따른 전기적 특성의 영향에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
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ECR-PECVD와 RF-PECVD법에 의해 증착된 TiN박막의 특성 비교
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
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PECVD 법에 의해 증착된 Ti-Si-C 코팅막 내의 증착 온도와 r.f. Power에 따른 특성 변화
한국표면공학회 학술발표회 초록집
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