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저자정보
Chien, Yao Hong (CHUNGHWA PICTURE TUBES,LTD. Mobile Product Design Division, TFT Business Unit) Huang, Jack (CHUNGHWA PICTURE TUBES,LTD. Mobile Product Design Division, TFT Business Unit)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
발행연도
2004.1
수록면
711 - 714 (4page)

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A new design for improving the aperture ratio of bottom emission type AMOLED is investigated. In conventional, the TFT of AMOLED fabrication method is "Etch Stopper (7-mask)", so the aperture ratio is limited in 28${\sim}$33% by Cs(Storage Capacitor). A high aperture ratio TFT is designed by using BCE(Back Channel Etching 5-mask) fabrication way and the aperture ratio is up to 40% shown in 2.2"AMOLED display.
#BCE #Back Channel Etching) #Etch Stopper #Cs #Storage Capacitor)

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