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저자정보
정준영 (한국기술교육대학교) 이우영 ([주]오에프티) 강흥석 ([주]오에프티)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2007년도 춘계학술대회
발행연도
2007.1
수록면
139 - 143 (5page)

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The need for technological developments of lithography equipment is urgent for the stable production in response to the rapid growth of the recent display industry. As an example, the products currently in the market face alteration problems resulting from excessive weight of the mask holder part. This is one of obstacle for the automation of the equipment. In response, the mask holder part problem has been minimized through FEM and design of experiments in order to optimize the situation with minimized Deflection and reduced mass for satisfactory replacement of the mask holder part.

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