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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2020.1
- 수록면
- 16 - 20 (5page)
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본 연구에서는 Normally-off GaN HEM구조를 만드는데 사용되는 이빔 리소그래피 미세패터닝 공정대신, 나노비드를 이용한 자체 정렬 된 허너콤형 패터닝 방법이 도입되었다. 허니 콤형 핀 게이트 채널 폭은 약 40-50nm이며, 이는 제안 된 방법으로 제조되며, 충분한 프린 징 전계 효과를 얻기 위해 미세한 폭으로 제조가 가능하다. 결과적으로, 본 연구에서 진행 된 GaN HEMT 소자의 임계 전압은 0.6V이고, Gm의 최대 정규 드레인 전류 및 트랜스 컨덕턴스는 각각 136.4mA / mm 및 99.4mS / mm 이었다. 허니 콤 채널의 핀 구조로 인해, 기존의 GaN HEMT 소자와 비교하여 더 작은 서브 임계 값 스윙(SS) 및 더 높은 Gm 피크 값을 얻게 되었다.
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참고문헌 (10)
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Finella Lee / 2015 / Impact of Gate Metal on the Performance of p-GaN/AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors / IEEE Electron Device Letters 36(3):232~234
Kyu Sang Kim / 2017 / Interface trap of p-type gate integrated AlGaN/GaN heterostructure field effect transistors / Japanese Journal of Applied Physics 56(9):091002
Di Song / 2007 / Normally Off AlGaN/GaN Low-Density Drain HEMT (LDD-HEMT) With Enhanced Breakdown Voltage and Reduced Current Collapse / IEEE Electron Device Letters 28(3):189~191
Patrick Fiorenza / 2018 / Determining oxide trapped charges in Al 2 O 3 insulating films on recessed AlGaN/GaN heterostructures by gate capacitance transients measurements / Japanese Journal of Applied Physics 57(5):050307
Satoshi Nakazawa / 2017 / Improved hysteresis in a normally-off AlGaN/GaN MOS heterojunction field-effect transistor with a recessed gate structure formed by selective regrowth / Japanese Journal of Applied Physics 56(9):091003
Kyu Sang Kim / 2017 / Interface trap of p-type gate integrated AlGaN/GaN heterostructure field effect transistors / Japanese Journal of Applied Physics 56(9):091002
Di Song / 2007 / Normally Off AlGaN/GaN Low-Density Drain HEMT (LDD-HEMT) With Enhanced Breakdown Voltage and Reduced Current Collapse / IEEE Electron Device Letters 28(3):189~191
Patrick Fiorenza / 2018 / Determining oxide trapped charges in Al 2 O 3 insulating films on recessed AlGaN/GaN heterostructures by gate capacitance transients measurements / Japanese Journal of Applied Physics 57(5):050307
Satoshi Nakazawa / 2017 / Improved hysteresis in a normally-off AlGaN/GaN MOS heterojunction field-effect transistor with a recessed gate structure formed by selective regrowth / Japanese Journal of Applied Physics 56(9):091003
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