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학술대회자료
저자정보
이나연 (한국생산기술연구원) 권오형 (한국생산기술연구원) 정진욱 (한양대학교)
저널정보
한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 2020년 한국진공학회 (제58회 동계정기학술대회 초록집)
발행연도
2020.2
수록면
81 - 81 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

2021

ICP etching 시스템의 RF bias 전극에서 측정된 전기적 특성과 플라즈마 파라미터와의 상관관계
이나연 전기공학과 2021.01 학위논문

2020

ICP etching 시스템의 RF bias 전극에서 측정된 전기적 특성과 플라즈마 파라미터와의 상관관계
이나연 ,  권오형 ,  정진욱 한국진공학회 학술발표회초록집 2020.02 학술대회자료

2019

ICP etching 시스템의 RF bias 전극에서 측정된 전기적 특성과 공정변수와의 상관관계
이나연 ,  권오형 ,  정진욱 한국진공학회 학술발표회초록집 2019.08 학술대회자료

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#VI Probe #플라즈마 임피던스 #부유 고조화 분석법 #이온 밀도 #전자 온도

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박연수 ,  신기원 ,  김우재 외 5명 한국진공학회 학술발표회초록집 2021 .02
The Study on the Change of Surface Characteristics by Plasma Dry Etching
명노선 전자공학회지 2020 .02
ICP etching 시스템의 RF bias 전극에서 측정된 전기적 특성과 공정변수와의 상관관계
이나연 ,  권오형 ,  정진욱 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 .08
ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구
김동일 ,  한승수 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2015 .11
건식 식각용 대면적 고밀도 초고주파 유도결합형 플라즈마 소스(VHF - ICP Source) 개발
권기청 ,  김정식 ,  최성혁 외 7명 한국진공학회 학술발표회초록집 2002 .02

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