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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
최홍균 (공주대학교)
저널정보
한국고분자학회 폴리머 폴리머 제44권 제2호
발행연도
2020.3
수록면
219 - 224 (6page)
DOI
10.7317/pk.2020.44.2.219

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블록공중합체의 자기조립 공정을 통한 나노패턴의 제조 기술은 기존 광리소그라피 방법의 집적도 한계를 극복할 차세대 리소그라피 기술로 각광받고 있다. 하지만, 구성 고분자간 상분리 힘의 제한으로 인해 블록공중합체를 이용한 나노패턴 역시 도달할 수 있는 집적도의 물리적 한계가 존재한다. 본 연구에서는 선택적 팽윤과 식각공정을 통해 기존 블록공중합체 패턴의 집적도를 두 배로 향상시킬 수 있는 방법을 제시하였다. 제시된 방법을 사용하여 자연 주기가 38 nm인 블록공중합체를 주기 19 nm, 선폭 7 nm의 집적도가 향상된 선형패턴을 제조할 수 있음을 실험적으로 보였다. 본 연구를 통해 차세대 리소그라피 방법으로의 블록공중합체의 활용 가능성을 더욱 확고히 할 수 있을 것으로 기대된다.
#block copolymers #nanolithography #nanopatterns #self-assembly #density doubling

목차

초록
Abstract
서론
실험
결과 및 토론
결론
참고문헌

참고문헌 (29)

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M. Park, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, and D. H. Adamson, Science, 276, 1401 (1997). google schola S. B. Darling, Prog. Polym. Sci., 32, 1152 (2007). google schola R. A. Segalman, Mater. Sci. Eng., R., 48, 191 (2005). google schola C. Park, J. Yoon, and E. L. Thomas, Polymer, 44, 6725 (2003). google schola F. H. Schacher, P. A. Rupar, and I. Manners, Angew. Chem. Int. Ed., 51, 7898 (2012). google schola

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