용액공정용 불소 도핑된 인듐 갈륨 징크 산화물 반도체의 박막 트랜지스터 적용 연구

정선호

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자료유형: 학술저널

저자정보: 정선호

저널정보: 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징학회지 마이크로전자 및 패키징학회지 제26권 제3호

발행연도: 2019.1

수록면: 59 - 62 (4page)

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본 논문은 용액공정용 불소 도핑된 인듈 갈륨 징크 산화물 반도체를 연구하였으며, 박막 트랜지스터 적용 가능성을 확인하였다. 용액형 산화물 반도체를 형성하기 위해, 금속염 전구체 기반 용액을 제조하였으며, 추가적인 불소 도핑을 유도하기 위해 화학적 첨가제로서 암모늄 플로라이드를 이용하였다. 열처리 온도 및 불소 도핑양에 따른 전기적 물성을 고찰함으로서, 300도 저온 열처리를 통해 제조된 산화물 반도체층의 전기적 특성을 향상시켰다. 20 mol% 불소를도핑하는 경우, 1.2 cm2/V·sec의 이동도 및 7×106의 점멸비 특성이 발현 가능함을 확인하였다.

참고문헌 (9)

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K. Nomura / 2004 / Room-Temperature Fabrication of Transparent Flexible Thin-Film Transistors Using Amorphous Oxide Semiconductors / Nature 432:488

S. Jeong / 2012 / Low-Temperature, Solution-Processed Metal Oxide Thin Film Transistors / J. Mater. Chem 22:1243

E. Fortunato / 2012 / Oxide Semiconductor Thin-Film Transistors : A Review of Recent Advances / Adv. Mater 24:2945

J. S. Park / 2012 / Review of Recent Developments in Amorphous Oxide Semiconductor Thin-Film Transistor Devices / Thini Solid Films 520:1679

J. -Y. Oh / 2009 / Room Temperature Fabrication of ZnO Nanorod Films: Synthesis and Application as a Channel Layer of Transparent Thin Film Transistors / Chem. Commun 45:4545

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정선호

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