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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
손명식 (순천대학교)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제22권 제6호
발행연도
2013.11
수록면
335 - 340 (6page)

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본 논문은 InP 식각정지층을 갖는 MHEMT 소자의 항복전압을 증가시키기 위한 시뮬레이션 설계 논문이다. MHEMT 소자의 게이트 리세스 구조 및 채널 구조를 변경하여 시뮬레이션을 수행하였고 비교 분석하였다. MHEMT 소자의 드레인 측만을 완전히 제거한 비대칭 게이트 리세스 구조인 경우 I<SUB>dss</SUB> 전류가 90 ㎃에서 60 ㎃로 줄어들지만 항복 전압은 2 V에서 4 V로 증가함을 확인하였다. 이는 Si₃N₄ 보호층과 InAlAs 장벽층 사이의 계면에서 형성되는 전자-포획 음의 고정전하로 인해 채널층에서의 전자 공핍이 심화되어 나타나는 현상으로 이는 채널층의 전류를 감소시켜 충돌이온화를 적게 형성시켜 항복전압을 증가시킨다. 또한, 동일한 구조의 비대칭 게이트 리세스 구조에서 채널층을 InGaAs/InP 복합 채널로 바꾸어 설계한 구조에서는 항복전압이 5 V로 증가하였다. 이는 높은 드레인 전압에서 InP 층의 적은 충돌이온화와 이동도로 인해 전류가 더 감소했기 때문이다.

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. MHEMT 소자의 항복전압 개선 구조에 대한 시뮬레이션
Ⅲ. 시뮬레이션 결과 비교 분석
Ⅳ. 결론
References

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