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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
송석균 (철원플라즈마산업기술연구원) 손병구 (철원플라즈마산업기술연구원) 김병훈 (철원플라즈마산업기술연구원) 이문원 (철원플라즈마산업기술연구원) 신명선 (철원플라즈마산업기술연구원) 최선용 (철원플라즈마산업기술연구원) 이규항 (철원플라즈마산업기술연구원) 김성인 (철원플라즈마산업기술연구원)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제22권 제2호
발행연도
2013.3
수록면
66 - 78 (13page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2013

양산용 80 kW급 RF Plasma Torch System 개발 및 Si 나노분말 제조 공정 연구
송석균 ,  손병구 ,  김병훈 외 5명 Applied Science and Convergence Technology 2013.03 학술저널

2012

Nano-Powder 제조를 위한 RF Thermal Plasma Torch System 개발 및 Nano-Si 특성 연구
송석균 ,  손병구 ,  김병훈 외 4명 한국진공학회 학술발표회초록집 2012.08 학술대회자료

초록· 키워드

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80 kW RF 플라즈마 토치 시스템을 개발하기 위하여, 토치 시스템에 대한 온도, 유체 거동 분석 등의 보다 많은 정보의 추출을 위하여 3차원 시뮬레이션을 진행했다. 파우더 주입관 위치, 입력 전류 변화에 따른 플라즈마 생성 특성, 세라믹 원통관 길이에 따른 플라즈마 방전 특성, 및 공정가스 유량에 따른 플라즈마 온도특성 등을 시뮬레이션 했다. 시뮬레이션을 통해 설계 제작된 RF 열 플라즈마 토치의 경우, 최대 89.3 kW까지 파워 인가가 측정되었다. 개발된 80 kW급 RF 열 플라즈마 토치 시스템의 양산성 평가로 Si 나노분말을 제조하고 특성을 고찰하였다. Si 나노분말의 생산량이 평균 539 g/hr의 양산 수준과 71.6%의 높은 수율을 달성했으며, 제조된 나노 분말은 D<sub>99</sub>/D<sub>50</sub>가 1.98의 좋은 입경 균일 분포도를 나타내었다.
#RF #열 플라즈마 #시뮬레이션 #Si #나노분말 #토치 #RF #Thermal plasma #Simulation #Si #Nano-powder #Torch

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 시뮬레이션
Ⅲ. 토치 시스템 설계
Ⅳ. Si 나노분말 제조 특성
Ⅵ. 결론
참고문헌

참고문헌 (12)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - S. V. Joshi / 1990 / / Plasma Chemistry and Plasma Processing 10 (2) : 339 ~ google schola 2. [기타자료] - 한국에너지기술연구원 / 2009 / ICP를 이용한 실리콘 나노입자 제조 장치 특허 10-2010-0091554 / 대한민국 google schola 3. [학술지(정기간행물)] - C. T. Crowe / 1977 / / Journal of Fluids Engineering 99 : 325 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - A. Chentouf / 1995 / / IEEE Trans. Mag 31 : 2100 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - J. Kim / 1997 / / IEEE Trans. Plasma Sci 25 : 1023 ~ google schola

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