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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2012.3
- 수록면
- 99 - 105 (7page)
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금 나노입자 촉매를 이용한 전기화학적 식각법에 의해 실리콘 표면에 짧은 시간의 효과적인 텍스쳐링을 통한 나노구조를 제작하여 무반사 특성을 조사하였다. 실험을 위해, 열증발증착법과 급속열처리법을 이용하여 단결정 실리콘 표면에 20 ㎚에서 150 ㎚ 크기의 금 나노입자를 형성하였고, 습식식각을 위해 금 나노입자가 코팅된 실리콘을 과산화수소와 불화수소가 포함된 식각용액에 1분 동안 담가두었다. 전기화학적 습식식각을 확인하기위해, 금 나노입자가 코팅된 실리콘을 음극으로 각각 ?1 V와 ?2 V의 전압을 인가하여 식각깊이와 반사율 스펙트럼을 비교하였다. 태양광 스펙트럼(air mass 1.5)을 고려하여 태양가중치 반사율을 계산한 결과, 전압을 인가하지 않고 식각된 실리콘 표면의 반사율이 25.8%인 반면, ?2 V의 전압을 인가하여 8.2%로 반사율을 크게 줄일 수 있었다.
목차
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 실험결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌
참고문헌 (18)
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1. [학술지(정기간행물)] - 김창조 / 2010 / 반응성 스퍼터링으로 제작된 SixOy-SixNy 적층구조의 반사방지 코팅 응용 / 한국진공학회지 19 (5) : 341 ~ 346
2. [학술지(정기간행물)] - M. F. Schubert / 2008 / / Opt. Express 16 : 5290 ~
3. [학술지(정기간행물)] - W. Śmigaj / 2009 / / Opt. Lett 34 : 3532 ~
4. [학술지(정기간행물)] - E. B. Grann / 1995 / / J. Opt. Soc. Am. A 12 : 333 ~
5. [학술지(정기간행물)] - H. Sai / 2007 / / Prog. Photovolt. Res. Appl 15 : 415 ~
2. [학술지(정기간행물)] - M. F. Schubert / 2008 / / Opt. Express 16 : 5290 ~
3. [학술지(정기간행물)] - W. Śmigaj / 2009 / / Opt. Lett 34 : 3532 ~
4. [학술지(정기간행물)] - E. B. Grann / 1995 / / J. Opt. Soc. Am. A 12 : 333 ~
5. [학술지(정기간행물)] - H. Sai / 2007 / / Prog. Photovolt. Res. Appl 15 : 415 ~
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