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전기문 (한국표준과학연구원) 신재수 (대전대학교) 임성규 (나노종합팹센터) 박상현 (나노종합팹센터) 강병구 (나노텍) 윤진욱 (에이치시티) 윤주영 (한국표준과학연구원) 신용현 (한국표준과학연구원) 강상우 (한국표준과학연구원)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제20권 제2호
발행연도
2011.3
수록면
86 - 92 (7page)

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본 연구에서는 새롭게 개발된 센서인 in-situ particle monitor (ISPM)와 기존센서의 기능을 업그레이드 한 센서인 selfplasma optical emission spectroscopy (SPOES)를 이용해 화학기상증착 진공공정을 진단하였다. 본 연구에서 사용된 증착공정 장비는 silane 가스를 이용한 silicon plasma enhanced chemical vapor deposition과 borophosphosilicate glass 증착 장비이다. 두 장비의 증착 또는 클리닝 조건에서의 배출되는 오염입자와 배기가스를 개발된 센서를 이용해 공정상태를 실시간으로 진단하는 것과 개발된 센서의 센싱 능력을 검증하고자 하는 목적으로 연구가 진행되었다. 개발된 센서는 장비 배기구 설치되었으며, 공정압력, 유량, 플라즈마 파워 등의 공정변수 변화에 따른 오염입자 크기 및 분포와 배기 부산물의 변화를 측정하고, 측정 결과의 상호 연관성을 분석하였다.

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험방법
Ⅲ. 결과 및 토의
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌

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