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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김주희 (서울대학교) 김연상 (서울대학교)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제19권 제2호
발행연도
2010.3
수록면
96 - 104 (9page)

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NIL, S-FIL과 같은 각인 기술(Imprinting lithography)를 적용하기 위한 투명하고 단단한 복제 틀(replica hard mold)을 제작하여 고가의 원판(master)와 패턴이 형성되는 기판과의 접촉을 근본적으로 방지해 경제적인 공정이 가능함을 제안한다. 실리콘 웨이퍼(Si wafer)와 같은 원판(master)과 패턴 형성 시 사용되는 기판과 직접적인 접촉을 방지하기 위해 우선 액상 공정을 이용하여 비접착성 표면처리된 고분자 복제(polymer copy)를 매개체(carrier)로 단단한 복제 틀을 제작한다. 이렇게 제작된 단단한 복제 틀(replica hard mold)는 유리와 거의 같은 강도와 투명도를 나타내며, 각인 공정(imprinting process) 에서 석영 틀, 실리콘 웨이퍼(quartz mold, Si wafer)과 같이 값비싼 원판(master)의 직접 사용을 대체하여 성공적으로 패턴을 구현할 수 있다.
#나노임프린트 리소그래피 #비전통적인 리소그래피 #단단한 복제 몰드 #하이브리드 무기 물질 #졸-겔 공정 #Nanoimprint lithography #Nonconventional lithography #Replica hard mold #Hybrid inorganic materials #Sol-gel process

목차

Ⅰ. 서론
Ⅱ. 극미세패턴 전사를 위한 고분자 복제 틀(Mold)
Ⅲ. 액상 실록세인(Siloxane)을 이용한 비접착성 표면처리기법
Ⅳ. 미세패턴 제작을 위한 각인 기술(Imprint lithography)용 단단한 복제 틀 제작
Ⅴ. 결론
참고문헌

참고문헌 (19)

참고문헌 신청
1. [학술지(정기간행물)] - B. Xu / 1999 / / Adv. Mater. 11 : 492 ~ google schola 2. [학술지(정기간행물)] - L. J. Guo / 1997 / / Science 275 : 649 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - P. M. Mendes / 2004 / / Langmuir 20 : 3766 ~ google schola 4. [학술지(정기간행물)] - J. P. Rolland / 2004 / / Angew. Chem. Int. Edit. 43 : 5796 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - P. J. Yoo / 2004 / / Chem. Mater. 16 : 5000 ~ google schola

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