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논문 기본 정보

자료유형
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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제8권 제3(1)호
발행연도
1999.8
수록면
201 - 206 (6page)

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저압화학증착 기술을 이용하여 유리 기판 위에 투명전도성 산화주석막을 증착하였다. Tetramethyltin, 1,1,1,2-tetrafluoroethane, 및 순수한 산소 혹은 오존 포함한 산소가 전구체, 혼입제 및 산화제로 각각 사용되었다. 산화주석막의 저압화학증착에서 오존의 역할을 조사하기 위하여 오존 포함한 산소를 사용해 증착된 산화주석막의 증착속도와 전기적 및 광학적 성질을 순수한 산소를 사용한 그것들과 비교하였다. Tetramethyltin과 1,1,1,2-tetrafluoroethane은 오존이 열적으로 개시되어 분해됨으로써 화학적으로 활성화되었다. 다른 점에서는 동일한 증착조건에서 오존 포함한 산소를 사용하여 보다 높은 증착속도에서 양질의 산화주석막을 제조할 수 있었다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험방법

3. 결과 및 고찰

4. 결론

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