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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제27권 제6호
발행연도
2014.1
수록면
350 - 355 (6page)

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N+ 실리콘웨이퍼를 게이트전극으로 사용하여 bottom-gate 구조의 SnO2 TFT를 제조하였다. 게이트절연층으로 사용되는 SiO2/Al2O3막 위에 ~ 60 nm 두께의 SnO2막을 고주파 스퍼터링하여 박막트랜지스터의 활성층으로 사용하였다. SnO2막의 저항률을 높이기 위해 스퍼터링시 아르곤과 함께 산소를 주입하였다. 산소주입에 따른 박막트랜지스터의 이동도 변화를 조사하였으며, 그 결과를 SnO2막의 결정성, 산소결합상태, 광특성 측정 등을 통해 분석하였다. 결정성과 산소결합상태를 조사하기 위하여 XRD 및 XPS측정을 하였다. 산소주입에 따라 SnO2 TFT의 이동도가 감소하였다. 이동도의 감소는 SnO2 막의 분극율 감소에 기인하는 것으로 확인되었다.

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