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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.1
- 수록면
- 568 - 573 (6page)
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본 실험에서는 PLD를 이용하여 수정 기판위에 25 nm에서 300 nm의 두께를 가지는 AZO (3 at.%) 박막의 제작을 시도하였다. XRD, SPM, 홀효과 측정 장치 및 분광광도계를 사용하여, 구조적, 형상학적, 광학적 그리고 전기적인 특성을 분석하였다. XRD 회절 패턴의 해석을 통해 제작된 박막이 우선방위 성장을 하였고, 두께가 증가할수록 높은 회절강도를 가지는 것을 확인하였다. 표면분석을 통해 박막의 두께가 증가할수록 표면 거칠기 및 결정립의 크기가 커지는 것으로 나타났다. 200 nm의 두께를 가지는 박막에서 4.25×10^(-4) Ω·cm의 가장 낮은 비저항과 6.84×10^(20) cm^(-3)의 캐리어 농도 및 21.4 ㎠/V·S의 이동도가 측정되었다. 제작된 모든 박막은 가시광영역에서 80% 이상의 투과도를 보였다. 위의 결과를 통해 박막의 두께는 구조적, 형상학적, 광학적 및 전기적 특성에 큰 영향을 줄 수 있으며, 적절한 두께의 조절을 통해서 보다 더 낮은 저항을 얻을 수 있을 것으로 생각된다.
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참고문헌 (27)
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A. F. Aktaruzzaman / 1991 / / Thin Solid Films 198 : 67 ~
A. I. Ali / 2006 / Growth and Characterization of ZnO:Al Thin Film Using RF Sputtering for Transparent Conducting Oxide / Journal of the Korean Physical Society 49 (III) : 65
A. Martin / 2002 / / Surf. Coat. Technol 151 : 289 ~
A. Suzuki / 2008 / / Thin Solid Films 517 : 1478 ~
B. E. Semelius / 1988 / / Phys. Rev B37 : 10244 ~
A. I. Ali / 2006 / Growth and Characterization of ZnO:Al Thin Film Using RF Sputtering for Transparent Conducting Oxide / Journal of the Korean Physical Society 49 (III) : 65
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A. Suzuki / 2008 / / Thin Solid Films 517 : 1478 ~
B. E. Semelius / 1988 / / Phys. Rev B37 : 10244 ~
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