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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제15권 제6호
발행연도
2002.1
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In this paper, the CF4 decomposition rate and by-product were investigated for a simulated two plasma reactors which are metal particle reactor and spiral wire reactor as function of mixed gases. The CF4 decomposition rate by plasma reactor with metal particle electrode had a gain of 20～25[%] over that by plasma reactor with spiral wire electrode. The CF4 decomposition efficiency increases with increasing applied voltage up to the critical voltage for spark formation. The CF4 decomposition efficiency of metal particle reactor was about 80[%] at AC 24[kV]. The CF4 decomposition rate used Ar-N2 as base gas was the highest among three base gases of N2, Ar-N2, air. The by-products of the N2, N2-Ar base as were similar, but in case of air base they were different.
#CF4 #Chlorofluorocarbon) #By-product #Plasma #Semiconductor #HFC #Hydrofluoro carbon)

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