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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제25권 제1호
발행연도
2012.1
수록면
58 - 61 (4page)

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Ag촉매 반응에 의한 나노크기의 텍스쳐링 구조 형성에 관한 연구를 하였다. Ag 촉매 반응을 이용한 텍스쳐링은 습식 텍스쳐링이기 때문에 기판에 가해지는 데미지를 최소화할 수 있으며 저렴하고 단순한 공정이다. 플라즈마를 사용하지 않기 때문에 기판에 가해지는 데미지를 최소화하며 나노크기의 구조물을 형성시킬 수 있다. 60℃ NaOH(6%)용액에서 150s 동안 Saw damage를 제거하고 진공증착법을 이용하여 Ag(99.999%)를 1 – 10 nm 증착하였다. 이후에 HF : H2O2 : H2O = 1 : 5 : 10 용액에서 80s - 220s 동안 텍스쳐링을 실시하였다. 이때 Ag는 촉매 역할을 하여 나노 크기의 텍스쳐링 구조를 얻게 한다. NH3과 H2O2의 혼합용액에서 Ag를 제거 한 후에 반사도를 측정하였다. 결과적으로 400 nm – 1,000 nm에서 9% 미만의 낮은 반사도를 얻을 수 있었다. 나노 크기의 텍스쳐링 구조물로 인하여 특히 단파장 대역에서의 반사도가 낮아지는 것을 확인하였다.
#Nano texturing #Ag catalytic texturing #Texturing

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