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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제25권 제1호
발행연도
2012.1
수록면
44 - 47 (4page)

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TiO2/Si3N4/Ag/Si3N4/TiO2 다층 구조는 PDP의 투명전극으로 적용하기 위해 설계되었다. 다층막은 DC/RF magnetron sputtering 장비를 이용하여 상온에서 유리 기판에 증착하였고, EMP 프로그램을 통해 박막의 광학적 특성을 설계하였다. 박막을 증착하는 동안 TiO2/Ag/TiO2 구조에서 Ag가 산화되어 PDP 필터의 특성이 쉽게 저하된다. 본 연구에서는 TiO2/Ag/TiO2 구조에서 Ag의 산화를 방지하기 위하여 Si3N4 버퍼층을 TiO2와 Ag층 사이에 삽입하여 확산 방지막으로 사용되었다. Si3N4 버퍼층이 TiO2/Ag/TiO2 구조에서 확산 방지막으로써 적용이 가능함을 확인하였다.
#TiO2/Si3N4/Ag/Si3N4/TiO2 #Buffer layer #TCO #PDP filter

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참고문헌 (6)

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H. Ohsaki / 1999 / / Thin Solid Films 351 : 1 ~ google schola Jang-Hoon Lee / 2004 / Optical and structural properties of TiO2/Ti/Ag/TiO2 and TiO2/ITO/Ag/ITO/TiO2 metal-dielectric multilayers by RF magnetron sputtering for display appli google schola M. Bender / 1998 / / Thin Solid Films 326 : 67 ~ google schola M. Fhaland / 2001 / / Thin Solid Films 392 : 334 ~ google schola 김대일 / 2009 / Properties of ITO/Cu/ITO Multilayer Films for Application as Low Resistance Transparent Electrodes / Transactions on Electrical and Electronic Materials 10 (5 google schola

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