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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제28권 제5호
발행연도
2015.1
수록면
306 - 313 (8page)

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본 연구에서는, Photo-lithography, Thermal reflow 공정을 적용하여 마이크로 광학 패턴 형성에 따른 광학 특성 변화에 대해 연구하였으며, 미세 패턴 형상과 휘도 변화는 분광기 및 SEM으로 평가하였다. 또한 3D-optical simulation(Optis works) 프로그램을 사용하여 휘도 특성을 비교 분석하였다. 그 결과 화학적 변화 없이 형상을 변화시키는 온도 조건을 통해 pattern 형상변화 후 계산한 곡률반경(R)은 100℃ 대비 최대 77%(150℃) 감소하였지만 공정 온도가 120℃인 조건에서 최적의 휘도 향상 조건을 얻었다. 기존 광원의 휘도 보다 R=16.95 um, θ=77.14°의 팔각형 형상일 때 휘도가 약 15% 상승하였으며, pattern의 곡률반경과 빗변의 각도에 대한 광학 simulation 결과, 실제 측정값과 비슷한 경향을 보였다. 이러한 결과를 토대로 마이크로 패턴의 곡률변화보다 빗변의 각도 변화가 광 향상에 기여하는 것으로 판단된다.
#Micro-pattern #Photo-lithography #Thermal reflow #Optical control layer #Simulation

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