메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류
인문학
인문학 일반 역사학 철학 종교학 어문학 기타 인문학
사회과학
사회과학 일반 경영학 관광학 교육학 군사학 문헌정보학 법학 사회학 신문방송학 심리과학 정치외교학 지리학 행정학 경제학 무역학 인류학 기타 사회과학
자연과학
자연과학 일반 물리학 생물학 생활과학 수학·통계학 천문학 지구과학 화학 기타 자연과학
공학
공학 일반 건축공학 기계공학 산업공학 재료·에너지공학 전기전자공학 조선해양공학 화학공학 컴퓨터학 기타공학
의약학
의학 일반 간호학 수의학 약학 한의학 기초의학 임상의학 기타 의약학
농수해양학
농수해양학 일반 농학 수산학 식품과학 임학 축산학 해상운송학 기타 농수해양학
예술체육학
예술 일반 디자인 미술 미용 사진 음악학 의상 체육 공연매체예술 기타 예술체육학
복합학
학제간연구 과학기술학 뇌인지과학 기술정책 기타 복합학

ENG

추천
검색

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제12권 제4호
발행연도
2011.1
수록면
131 - 134 (4page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색

초록· 키워드

오류제보하기
Back-end-of-line using ultra low-k (ULK; k < 2.5) has been required to reduce resistive capacitance beyond 45 nmtechnologies,because micro-processing units need higher speed and density. There are two strategies to manufacture ULK inter-layer dielectric (ILD) materials using an air-gap (k = 1). The former ULK and calcinations of ILD degrade the mechanical strength and induce a high cost due to the complication of following process, such as chemical mechanical polishing and deposition of the barrier metal. In contrast, the air-gap based low-k ILD with a relatively higher density has been researched on the trench-type with activity, but it has limited application to high density devices due to its high air-gap into the next metal layer. The height of air-gap into the next metal layer was reduced by changing to the via-typed air-gap, up to about 50% compared to that of the trench-typed air-gap. The controllable ULK was easily fabricated using the via-typed air-gap. It is thought that the via-type air-gap made the better design margin like via-patterning in the area with the dense and narrow lines.
#Via-typed air-gap #Trench-typed air-gap #Ultra low-k #Inter-dielectric layer #Effective dielectric constant

목차

등록된 정보가 없습니다.

참고문헌 (10)

참고문헌 신청
A. Piontek / 2007 / / Semicond. Sci. Technol 22 (s9) google schola C. J. Wilson / 2009 / / Appl. Phys. Lett 94 : 181914 ~ google schola H. Park / 2009 / Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamentals and Applications / Springer : 153 ~ google schola J. Faguet / 2009 / / IEEE International Interconnect Technology Conference : 35 ~ google schola J. Yuan / 2009 / 02.023] / Microelectron. Eng 86 (2119) google schola

이 논문의 저자 정보

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0