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논문 기본 정보

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저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제17권 제7호
발행연도
2004.1
수록면
697 - 700 (4page)

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We propose a method that realizes the modified illumination by implementing a binary phase grating at the backside of a photomask. By modeling the relationship between the shape of a grating on the photomask and the light intensity at the pupil plane, we developed a program named MIDAS that finds the optimum grating pattern with a stochastic approach. After applying the program to several examples, we found that the program finds the grating pattern for the modified illumination that we want. By applying the grating at the backside of a photomask, the light efficiency of modified illumination may be improved.
#Modified illumination #Diffraction grating #Annular illumination #Quadrupole illumination #Deep submicron lithography

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참고문헌 (5)

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/ 1986. / A concept for a high resolution optical lithographic system for producing onehalf micron linewidths : 228 ~ google schola / 1991. / Photographic system using annular illumination 30 (11b) : 3021 ~ google schola / 1992. / Subhalf micron lithography system with phaseshifting effect : 92 ~ google schola / 1994. / High performance lithography with advanced modified illumination 77c (3) : 432 ~ google schola / 1996. / KrF excimer laser lithography witha dummy diffraction mask 29 (3) : 317 ~ google schola

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