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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제16권 제2호
발행연도
2003.1
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For fabricating high Tc superconducting deposition film, novel electrophoretic deposition (EPD) technique applied to deposit surface charged particles on metal substrate with only d.c field has been studied. However, the electric properties of superconducting film could not be improved easily by this way, because the particles of EPD films were usually deposited randomly on metal substrate without any directional orientation affected to its critical current density. For the purpose of obtaining partcle orientation on the EPD films, the new method modified by a.c. assisted field to the conventional electrophoresis system was investigated to improve the particle deposition density and to increase the contacting area among the particles with highly oriented particle deposition of BSCCO superconducting film.
#Electrophoretic deposition #EPD) #A.C assisted field #BSCCO #Superconducting film

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