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논문 기본 정보

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저자정보
저널정보
한국기계기술학회 한국기계기술학회지 한국기계기술학회지 제13권 제4호
발행연도
2011.1
수록면
93 - 100 (8page)

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This paper presents a new type of optical silicon accelerometer using deep reactive ion etching (DRIE)and micro-stereolithography technology. Optical silicon accelerometer is based on a mass suspended by four vertical beams. A vertical shutter at the end of the mass can only moves along the sensing axis in the optical path between two single-mode optical fibers. The shutter modulates intensity of light from a laser diode reaching a photo detector. With the DRIE technique for (100) silicon, it is possible to etch a vertical shutter and beam. This ensures low sensitivity to accelerations that are not along the sensing axis. The microstructure for sensor packaging and optical fiber fixing was fabricated using micro stereolithography technology. Designed sensors are two types and each resonant frequency is about 15 kHz and 5 kHz.

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