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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징학회지 마이크로전자 및 패키징학회지 제23권 제2호
발행연도
2016.1
수록면
91 - 96 (6page)

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본에서는 저반사 나노구조 필름의 열 나노임프린트 공정 최적화를 위해 나노구조의 성형성과 광학적 특성에대한 이형 온도의 영향을 평가하였다. 이형 온도에 따른 광학적 특성을 평가한 결과 70oC까지는 이형 온도가 증가함에따라 투과율과 반사율 특성이 향상되는 거동을 보였으나 그 이후에는 오히려 투과율이 감소하고 반사율이 증가하는 경향을 보였다. 이와 같은 이형온도에 따른 거동은 성형성에도 유사하게 관찰되었으며 자유체적 형성과 고분자 유동에 의한 것으로 보인다. 따라서, 이형 온도에 따라 고분자의 유동과 자유체적의 형성에 의한 패턴의 성형성이 결정되며, 이로인해 광학적 특성에 영향을 줄 수 있음을 확인하였다.
#Nano imprint lithography #Polymer viscosity #Demolding temperature

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참고문헌 (18)

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A. R. Parker / 2007 / Biomimetics of photonic nanostructures / Nature nanotechnology 2(6):347 google schola S. H. Kim / 2011 / Fabrication of Multi-height Nanostructures for High Antireflection and Superhydrophobicity / Journal of the Korean Society for Precision Engineering :349 google schola 배병주 / 2009 / 나노임프린트 리소그래피와 유연 PVA 템플릿을 이용한 렌즈 표면 moth-eye 패턴 형성에 관한 연구 / 한국표면공학회지 42(2):59~62 dbpia S. R. Kennedy / 2003 / Porous broadband antireflection coating by glancing angle deposition / Applied optics 42(22):4573 google schola D. G. Choi / 2008 / Fabrication of Synthetic Moth-Eye Anti-Reflection Structure Using Nanoimprint / Journal of The Korean Society of Mechanical Engineers spring conference :13~17 google schola

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