Compositional Study of Surface, Film, and Interface of Photoresist-Free Patternable SnO2 Thin Film on Si Substrate Prepared by Photochemical Metal-Organic Deposition

최용준; 강경문; 박형호

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자료유형: 학술저널

저자정보: 최용준 강경문 박형호

저널정보: 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징학회지 마이크로전자 및 패키징학회지 제21권 제1호

발행연도: 2014.1

수록면: 13 - 17 (5page)

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The direct-patternable SnO2 thin film was successfully fabricated by photochemical metal-organic deposition. The composition and chemical bonding state of SnO2 thin film were analyzed by using X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) from the surface to the interface with Si substrate. XPS depth profiling analysis allowed the determination of theatomic composition in SnO2 film as a function of depth through the evolution of four elements of C 1s, Si 2p, Sn 3d,and O 1s core level peaks. At the top surface, nearly stoichiometric SnO2 composition (O/Sn ratio is 1.92.) was observeddue to surface oxidation but deficiency of oxygen was increased to the interface of patterned SnO2/Si substrate wherethe O/Sn ratio was about 1.73~1.75 at the films. This O deficient state of the film may act as an n-type semiconductorand allow SnO2 to be applied as a transparent electrode in optoelectronic applications.

#Tin dioxide #N-type semiconductor #Photochemical metal-organic deposition #XPS depth profiling

참고문헌 (13)

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D. J. Houlton / 1995 / The deposition of platinum-containing tin oxide thin films by metal-organic CVD / Chem. Vap. Deposition 1 : 26 ~

J. F. Wager / 2008 / Transparent Electronics / Springer

M. D’Arienzo / 2010 / Onestep preparation of SnO2 and Pt-doped SnO2 as inverse opal thin films for gas sensing / Chem. Mater. 22 : 4083 ~

M. Kwoka / 2005 / XPS study of the surface chemistry of L-CVD SnO2 thin films after oxidation / Thin Solid Films 490 : 36 ~

M. Kwoka / 2006 / XPS depth profiling studies of L-CVD SnO2 thin films / Appl. Sur. Sci. 252 : 7730 ~

이 논문의 저자 정보

최채형

소속기관 한국마이크로전자및패키징학회

주요연구분야 공학 > 재료·에너지공학 > 재료공학

논문수 6 이용수 38

강경문

소속기관 연세대학교 신소재공학과

주요연구분야 공학 > 재료·에너지공학 > 재료공학

논문수 6 이용수 81

박형호

소속기관 연세대학교

주요연구분야 공학 > 재료·에너지공학 > 재료공학

논문수 29 이용수 300

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