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나노결정질 다이아몬드 박막 증착을 위한 전처리 공정으로 SF6/O2 유도결합 플라즈마를 이용하여 Si 기판 표면을 texturing하였다. SF6/O2 플라즈마 texturing은 2~16 범위의 매우 넓은 정규화된 표면 조도 선택성을 제공할 수 있음을 확인하였다. Texturing된 Si 기판 표면의 나노 다이아몬드 입자 seeding 이후 기존 기계적 연마 전처리에 비해 현저히 향상된~6.5 × 1010cm−2의 높은 핵형성 밀도를 확보하였다.
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참고문헌 (13)
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A.V. Sumant / 2010 / Ultrananocrystalline and nanocrystalline diamond thin films for MEMS/NEMS applications / MRS Bull 35 : 281 ~
E. Worner / 1998 / Low-pressure synthetic diamond / Springer : 165 ~
H.A. Girard / 2010 / Hydrogenation of nanodiamonds using MPCVD: A new route toward organic functionalization / Diamond Relat. Mater 19 : 1117 ~
J.E. Dahl / 2003 / Isolation and structure of higher diamondoids, nanometer-sized diamond molecules / Science 299 : 96 ~
JinKonKim / 2002 / Diamond thin film deposition on Ni in microwave plasma CVD / 한국결정성장학회지 12 (6) : 311 ~ 316
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JinKonKim / 2002 / Diamond thin film deposition on Ni in microwave plasma CVD / 한국결정성장학회지 12 (6) : 311 ~ 316
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