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자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
대한치주과학회 Journal of Periodontal & Implant Science Journal of Periodontal & Implant Science 제37권 제4호
발행연도
2007.1
수록면
767 - 777 (11page)

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양극 산화 임플란트 표면의 경우 염산 테트라싸이클린을 3분 이내로 적용 시 표면의 변화 양상을 발견할 수 없었다. 양극 산화 임플란트 표면은 해독을 위하여 사용되는 염산 테트라싸이클린에 안정성이 있다고 할 수 있다.

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