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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
주석민 (Masan University) 조현철 (Kyungbuk college) 이수호 (Donga University)
저널정보
한국전기전자학회 전기전자학회논문지 전기전자학회논문지 제23권 제2호
발행연도
2019.6
수록면
502 - 507 (6page)

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우리는 준 2차원 Landau 분할 시스템의 양자 광학 전이 특성을 실리콘(Si)에서 이론적으로 고찰하였다. Squre wall 구속 포텐셜에 의한 전자 구속 시스템에 양자 수송 이론(QTR)을 적용하였습니다. 평형 평균 투영 계획(Equilibrium Average Projection Scheme:EAPS)으로 계획된 Liouville 방정식 방법을 사용하였으며, 양자 전이를 분석하기 위해 포톤 방출 전이과정과 포논 흡수 전이 과정의 두 전이 과정에서 QTLW와 QTLS의 온도와 자기장 의존성을 비교하였습니다. 이 연구를 통해 Si의 QTLW와 QTLS의 온도와 자기장의 증가하는 특성을 발견하였으며, 또한 우세한 산란 과정이 포논 방출 전이 과정이라는 것을 발견했다.

목차

Abstract
요약
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 시스템
Ⅲ. 수치해석 결과 및 토의
Ⅳ. 결론
References

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