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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
서양곤 (경상대학교)
저널정보
한국청정기술학회 청정기술 청정기술 제24권 제4호
발행연도
2018.12
수록면
348 - 356 (9page)

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분자전산 모사 방법에 의하여 슬릿 기공과 무작위 에칭 흑연(randomly etched graphite, REG) 기공을 가지는 탄소계 흡착제에서 산소, 질소 그리고 아르곤에 대한 흡착 평형을 계산 하였다. 흡착량 계산에서 흡착제와 흡착질의 신뢰할 만한 모델은 공업적 흡착 분리 공정의 정확한 설계에 매우 중요하다. 5.6 Å의 가장 작은 물리적 기공 크기에서 오직 산소만이 기공의 중심에 흡착하였으며, 5.9 Å부터 질소와 아르곤이 흡착을 시작하였다. 균일한 표면을 가지는 슬릿기공이 결함 기공의 불용 부피와 접근이 불가능한 부피로 인하여 표면에 이질성을 가지는 REG 기공보다 더 높은 흡착 능력을 보였다. 탄소계 흡착제의 경우 질소보다 산소가 높은 흡착량을 보였으며, 기공이 큰 경우 산소와 아르곤의 흡착량은 동일함을 보였다. 298 K에서 흡착 등온선 계산으로부터 압력이 증가할수록 질소에 대한 산소의 흡착량의 비율이 높아짐을 보였다.
#탄소계 흡착제 #표면 이질성 #흡착 등온선 #분자모사 #Carbonaceous adsorbent #Heterogeneity of surface #Adsorption isotherm #Molecular simulation

목차

요약
Abstract
1. 서론
2. 계산 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
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