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Carbon nanomaterials including nanocrystalline diamond and graphene films are expected to play a core role in 21<SUP>st</SUP> century industries due to their amazing physicochemical properties. To achieve their practical utilization and industrialization, the development of their mass production technologies is strongly required. Recently, a surface wave excited plasma (SWP) which is produced using microwaves has been attracting special attentions as a candidate for the mass production technology of carbon nanomaterials. SWP can allow a low-temperature largearea plasma chemical vapor deposition (CVD) system. Here, this article introduces the promising SWP-CVD technology. Plasma characteristics in a SWP will be introduced in detail to help understanding how to use and control a SWP as a plasma source for CVD applications.
목차
1. 서론
2. 표면파 플라즈마의 등장
3. 플라즈마-유전체 경계면을 전파하는 전자파
4. 표면파 플라즈마의 방전특성
5. 카본 나노재료 합성을 위한 플라즈마의 최적 조건
6. 표면파 플라즈마를 이용한 나노크리스탈 다이아몬드 박막 합성
7. 표면파 플라즈마를 이용한 그래핀 박막 합성
8. 결론
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