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한국산학기술학회 한국산학기술학회 학술대회논문집 한국산학기술학회 2008년도 추계학술발표대회 논문집
발행연도
2008.11
수록면
354 - 357 (4page)

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본 연구는 광전자촉매 시스템(PECS) 적용을 위하여 광촉매 금속판과 코팅비드를 제조하여 특성을 고찰하였다. 광촉매 물질의 회수가 용이하고, 실용화하기 위하여 티타늄 금속판을 400℃에서 700℃까지 50℃에서 100℃간격으로 토치를 사용하여 산화처리 하였으며, 비드의 경우 alumina, glass, silica gel beads에 TTIP([Ti(OC3H7)4], Aldrich)을 전구체로 사용하여, 유동층 화학기상증착공정(Fluidized Bed Chemical Vapor Deposition, FB-CVD)으로 박막코팅을 하였다. 광촉매 금속판의 경우 산화처리 후 외관 상태와 성분분석 시 최적조건은 400℃~500℃ 60분간 토치로 산화하였을 때였으며, 광촉매 코팅비드의 경우 silica gel beads가 본연의 다공구조를 나타내며 박막코팅이 되어, 상대적으로 alumina, glass beads 에 비해 반응표면적이 크게 나타났다.

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