Semiconductor wafer exhaust moisture displacement unit

Chan, Danny; Kim, Jonghae

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자료유형: 학술저널

저자정보: Chan, Danny Kim, Jonghae

저널정보: 한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제16권 제8호

발행연도: 2015.8

수록면: 5,541 - 5,549 (9page)

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본 논문은 반도체 웨이퍼 공정 배기가스 수분제어장치에 적용하기 위하여 인덕션 히터를 사용해서 안전하고 효율적인 전력을 사용하는 히터에 대한 설계방법을 제안한다. 수분을 제거하기 위해서 질소 가스의 흡열 반응을 발생하는 필라멘트 히터를 이용하여 배기가스 제거 시스템이 만들어진다. 이론적인 최적화와 전기적인 구현을 통해서 인덕션 이론은 반도체 웨이퍼 공정 배기가스 시스템을 위한 인덕션 히터 설계과정에 적용되어진다. 제안한 인덕션 히터 설계는 에너지 측면에서 비효율적이고 신뢰성이 떨어지며 안전하지 못한 현재의 설계문제에 대한 해결책을 제시한다. 인덕션 히터의 강인성과 미세조정 설계기법이 질소 히터의 사양내에서 에너지 소모를 최적화한다. 최적화는 배기 파이프의 공진주파수에 의해서 특성화된 ZVS(Zero Voltage Switching)를 기초로 이루어진다. 시스템에서 끼어진 고장 안전(fail-safe) 에너지 리미터는 MOSFET의 궤환 제어를 통하여 전압 레귤레이터를 사용하고 N2 히터 유닛의 사양이내에서 작동하기 위한 성능을 만족하도록 한다. 수치 해석과 설계의 우수성을 위한 기존의 필라멘트 히터와 미세조정한 인덕션 히터 설계의 사양과 성능비교는 제안한 인덕션 히터 설계방법이 우수함을 보여준다.

#Hysteresis Effect #Induction Heating #Remanence #Resonant Frequency #Coercive Force #Exhaust Gas #Moisture Displacement Endothermic Reaction

참고문헌 (11)

참고문헌 신청

[단행본] - J. Michael Sherer / 2010 / Semiconductor Industry: Wafer Fab Exhaust Management / CRC Press : 13 ~ 27

[인터넷자원] - Brighter Company / / Hot N2 System / Brighten.co.kr

[학술지(정기간행물)] - Livingston, J. D. / 1981 / A review of coercivity mechanisms / Journal of Applied Physics 52 (3) : 2541 ~ 2545

[학술지(정기간행물)] - Gaunt, P. / 1986 / Magnetic viscosity and thermal activation energy / Journal of Applied Physics 59 (12) : 4129 ~ 4132

[인터넷자원] - SemiAn Technology / / Burn plus wet scrubber for exhaust gas cleaning / Crystec.com

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