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한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제12권 제2호
발행연도
2011.2
수록면
829 - 834 (6page)

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고 집적 회로의 제작에 있어서 노광 공정은 가장 중요한 기술로 주로 마스크 방식의 노광 방법을 사용하지 만 다품종 소량 생산 및 주기적인 제품 변화에 있어서 효율적이지 못하기 때문에 마스크리스 리소그래피 기술이 노 광공정에서 각광받고 있다. 본 연구에서는 DMD를 이용한 마스크리스 리소그래피에 있어 다중 레이저 빔의 에너지와 중첩도와의 연관성을 시뮬레이션을 통해 분석하였다. 시뮬레이션을 통해 최적의 스캔 라인 간격을 제시하였고, LDI 시스템을 이용한 노광 실험을 통해 미세 페턴의 정밀도를 향상시킬 수 있었다.
#DMD(Digital Micromirror Device) #Maskless lithography #Multi beam simulation

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참고문헌 (7)

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홍진수 / 나노미터 크기의 임의 형상을 제작하기 위한 새로운 리소그래피 기술 / 한국산학기술학회논문지 5(3):197~203 dbpia 조명우 / PCB 노광을 위한 DMD를 이용한 마스크리스 리소그래피 기술 / 기계저널 50(6):43~47 dbpia M. S. Seo / 2007 / Lithography upon micro mirrors / Computer-Aided Design 39:202~217 google schola 서만승 / 2005 / 마스크리스 리소그래피를 위한 점유면적기반 패턴 생성방법 (Occupancy based pattern generation method for masklesslithography) google schola Wehnhui Mei / 2002 / POINT ARRAY MASKLESS LITHOGRAPHY, US. Patent, No.6473237 B2, 2002 google schola

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