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한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제7권 제1호
발행연도
2006.2
수록면
27 - 32 (6page)

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옥타데실아민을 사용하여 HiPeD 단층벽 탄소나노튜브 중에서 반도체-탄소나노튜브를 분리하였다. 산 처리한 탄소나노튜브를 옥타데실아민과 혼합하고 120℃에서 120시간동안 가열하였다. 옥타데실아민은 반도체-탄소나노튜브의 벽에 선택적으로 물리흡착되었다. 옥타데실아민과 반응시킨 탄소나노튜브를 최종적으로 태트라하이드로퓨란에 넣고 초음파로 분산시켰다. 금속-탄소나노튜브와 옥타데실아민이 흡착되지 않은 반도체-탄소나노튜브는 서로 영겨 붙어서 침전되었다. 반면, 옥타데실아민이 물리흡착된 반도체-탄소나노튜브는 분산 용액의 상청액(supernatant)에 남아 있게 된다. 514 ㎚와 1064 ㎚의 라만분광법으로 측정한 결과, 상청액에는 반도체-탄소나노튜브가 94 %이상이, 침전물에는 50 % 정도 존재함을 알게 되였다.

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