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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
Sungmin Hwang (Seoul National University) Hyungjin Kim (Seoul National University) Dae Woong Kwon (Seoul National University) Jong-Ho Lee (Seoul National University) Byung-Gook Park (Seoul National University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.17 No.2
발행연도
2017.4
수록면
216 - 222 (7page)

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The most prominent challenge for MOSFET scaling is to reduce power consumption; however, the supply voltage (V<SUB>DD</SUB>) cannot be scaled down because of the carrier injection mechanism. To overcome this limit, a new type of field-effect transistor using positive feedback as a carrier injection mechanism (FBFET) has been proposed. In this study we have investigated the electrical characteristics of a Si<SUB>1-x</SUB>Ge<SUB>x</SUB> FBFET with one gate and one-sided Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB> spacer using TCAD simulations. To reduce the drain bias dependency, Si<SUB>1-x</SUB>Ge<SUB>x</SUB> was introduced as a low-bandgap material, and the minimum subthreshold swing was obtained as 2.87 mV/dec. This result suggests that a Si<SUB>1-x</SUB>Ge<SUB>x</SUB> FBFET is a promising candidate for future low-power devices.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. DEVICE STRUCTURE
III. DEVICE OPERATION
IV. SIMULATION RESULTS
V. CONCLUSIONS
ACKNOWLEDGMENTS
REFERENCES

참고문헌 (21)

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2018-020-000839737