Development of UV Curable Fluorinated-Siloxane Resins for the Replica Mold of Roll-to-Roll UV Nanoimprint Lithography for 100 nm Pitch Wire Grid Polarizer

이영철; 강영훈; 이창진; 조성윤

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저자정보: 이영철 (한국화학연구원) 강영훈 (한국화학연구원) 이창진 (한국화학연구원) 조성윤 (한국화학연구원)

저널정보: 한국고분자학회 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 한국고분자학회 2015년도 추계학술대회 연구논문 초록집

발행연도: 2015.10

수록면: 116 - 116 (1page)

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2016

Development of UV Curable Fluorinated Siloxane-based Resins for the Replica Mold of Roll-to-Roll UV Nanoimprint Lithography

이영철 , 강영훈 , 이창진 외 1명 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 2016.04 학술대회자료

2015

Development of UV Curable Fluorinated-Siloxane Resins for the Replica Mold of Roll-to-Roll UV Nanoimprint Lithography for 100 nm Pitch Wire Grid Polarizer

이영철 , 강영훈 , 이창진 외 1명 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 2015.10 학술대회자료

Development of siloxane-based UV curable resins for roll-to-roll UV nanoimprint lithography for 100 nm pitch wire grid polarizer

이영철 , 배은진 , 강영훈 외 3명 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 2015.04 학술대회자료

2014

Synthesis and Characterization of Photocurable Siloxanes for 100 nm Pitch Nanoimprint Lithography

이영철 , 강영훈 , 배은진 외 2명 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 2014.10 학술대회자료

Synthesis of Photocurable Siloxanes and Phosphorus Contanining Materials for Nanoimprint Lithography

이영철 , 배은진 , 강영훈 외 2명 한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집 2014.04 학술대회자료

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