Synthesis and Characterization of Alicyclic Polymers with Hydrophilic Groups for 193-nm Single-Layer Resist

Min Ho Jung ,  Jae Chang Jung ,  Cheol Kyu Bok 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Alicyclic Polymers Based on t-BOC Protected Norbornene Derivatives for Applications As ArF Photoresists

강종희 ,  신중한 ,  이재형 외 7명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Synthesis of Polyamide-imides Containing Alicyclic Units

Seong Jong Kim ,  Byungyong Lee ,  Sang Youl Kim

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2016 .10

Synthesis and Characterization of Novel Polyimides from Alicyclic Dianhydride

Kil Yeong Choi ,  Mi Hie Yi ,  Moon Young Jin 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Synthesis and Characterization of Soluble Polyimides containing Bulky Alicyclic Structures

이미혜 ,  최길영 ,  정진태 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Comparison of synthetic methods of wholly alicyclic polyimides

정재우 ,  유환철 ,  정찬문

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2013 .04

high refractive index and composed of sulfur-containing alicyclic polyurethane

이재은

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2010 .10

Acid-labile Protected Polyamide의 합성과 응용

김성은 ,  홍성일

한국섬유공학회 학술발표논문집

1994 .01

synthesis of Positive-type Photoresist using PBO with various end groups

박주현 ,  윤정 ,  신요섭 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2019 .04

A study on the synthesis of fluorinated polymers and application to photoresist for optical wave guide patterning

정진숙 ,  위성유 ,  이우균 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2007 .10

지방족고리 구조를 함유하는 감광성 폴리이미드 수지의 합성 및 특성 평가

심종천 ,  최성묵 ,  심현보 외 2명

폴리머

2004 .11

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Synthesis and Characterization of New Alicyclic Polyimides by bis-Diels-Alder Polymerization

지준호 ,  김용석 ,  정진철

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .10

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Alicyclic Polymers Based on t-BOC-Dinorbonene as Resists Materials

이재형 ,  강종희 ,  김종만 외 9명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

synthesis and Characterization of novel polyimides containing alicyclic unit and phenyloxy pendent group

정진철 ,  김용석

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06