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학술저널
저자정보
Yoon Kim (Samsung Electronics Company) Joo Yun Seo (Seoul National University) Sang-Ho Lee (Seoul National University) Byung-Gook Park (Seoul National University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.14 No.5
발행연도
2014.10
수록면
566 - 571 (6page)

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Channel-stacked 3D NAND flash memory is very promising candidate for the next-generation NAND flash memory. However, there is an inherent issue on cell size variation between stacked channels due to the declined etch slope. In this paper, the effect of the cell variation on the incremental step pulse programming (ISPP) characteristics is studied with 3D TCAD simulation. The ISPP slope degradation of elliptical channel is investigated. To solve that problem, a new programming method is proposed, and we can alleviate the VT variation among cells and reduce the total programming time.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. CHANNEL-STACKED ARRAY
III. ISPP CHARACTERISTICS
V. NEW PROGRAMMING METHOD TO REDUCE PROGRAM TIME
VI. CONCLUSION
REFERENCES

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