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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
정상현 (청주대학교) 김광호 (청주대학교)
저널정보
한국정보기술학회 한국정보기술학회논문지 한국정보기술학회논문지 제12권 제11호(JKIIT, Vol.12, No.11)
발행연도
2014.11
수록면
1 - 6 (6page)
DOI
10.14801/kitr.2014.12.11.1

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고온급속 열처리된 VF₂-TrFE/Si 구조를 이용하여 금속-강유전체-반도체(MFS) 커패시터를 제작하였으며, MFS 커패시터의 비휘발성 메모리 동작을 확인하였다. MFS 커패시터의 C-V 특성에서는 VF₂-TrFE의 강유전성에 기인하는 히스테리시스 곡선이 확인되었다. C-V 곡선의 축적영역의 커패시턴스 값으로부터 계산한 VF₂-TrFE 박막의 비유전상수 값은 약 9.5였다. 실온에서 확인한 박막의 누설전류밀도는 인가 전계 1MV/㎝에서 10<SUP>-7</SUP>A/㎠ 였다. 전형적인 잔류 분극값과 항전계 값은 각각 5.7μC/㎠와 470KV/㎝로 측정되었다. 강유전체 커패시터는 500KHz의 바이폴러 펄스를 인가하여 측정하였을 때 10<SUP>10</SUP> 사이클에서 초기 분극 값의 30%가 분극 열화함을 보였다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. MFS 커패시터 제작 방법
Ⅲ. 실험 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
References

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